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四五中文 >  逆流1982 >   第1161章 光刻机

段云这次来日本,虽然所有的住宿餐饮全部由日方负责接待,但是段云还是提前兑换出了30万美元,以备不时之需。

当天晚上,段云一直思考到很晚才睡着,内心带着几分不安和焦虑。

而在另一侧房间的李芸,也同样到很晚才睡着的,和段云分开后,她一直都坐在房间靠窗的沙发上,看着窗外璀璨夺目的东京夜景,内心则是满满的兴奋和激动……

……

第2天一早,东芝派车把段云接到了位于东京市郊的芯片工厂,而这次接待他们的,则正是上次来华考察的田中信一。

看到段云之后,田中也表现的非常热情,领他到东芝的芯片工厂进行了参观。

一直以来,日本的芯片产业由6家巨型电子公司做掌控,其中包括:日本电器,富士通,日立,东芝,三菱电机,和冲电器组成,他们直接从政府得到资助,用于提高日本高科技行业的技术。

这些公司不仅生产芯片还生产电子设备,不过在80年代的时候,这些公司的年营业额收入中只有7%来自芯片的销售,而在这几家企业中,东芝公司的占比稍高一些,能达到13%左右。

在田中信一的带领下,段云和李芸进入了生产车间后,立刻就被工作人员安排换上了防尘服。

段云的天音电子厂也有无尘车间,但是和东芝公司的无尘车间相比,相差了不止一个等级,这个车间的密封度非常高,工人进入车间的时候不仅要穿上全套的防尘服,而且还要进行全身的清洗和消毒。

而进入生产车间后,里面的情况也让段云和李芸感到了震撼。

所有的工人都在有条不紊的工作着,里面的机器看起来非常的先进和精密,偌大的车间只有100多名工人,但根据田中信一的介绍,这个车间年产芯片能达到惊人的500万枚。

芯片生产是个非常精密复杂的过程,车间里的每样设备动辄几百万,甚至上千万美元,投入是相当巨大的。

另外生产芯片的机器主要有光刻机,等离子刻蚀刻机,离子注入机,单晶炉,晶圆划片机,晶片减薄机,氧化炉,低压化学气沉淀积系统,磁控溅射台,化学机械研磨机,引线键合机,以及探针测试台等等。

这些设备都是当前国际芯片产业最先进的设备,而最为后世人所熟知的芯片生产设备,就当属光刻机了。

光刻机也叫做激光雕刻机,是一种专门用来制造微小电子元件的设备,至于这个“微小”要微小到什么程度呢?就拿当今世界上最流行的芯片工艺来说,7nm工艺大概要求大概是人类头发丝的万分之一,可以想象这其中的技术有多难了。

我国实际上也进行过光刻机的研发,并且这件事要追溯到半个世纪以前的60年代。当时,我国的专家们就已经研发出了65型接触式光刻机,而当时荷兰ASML公司还要过5年才成立,说来也是讽刺,虽然我国当时领先了荷兰ASML五年,后来却一落千丈,远远落后世界水平。

原来在80年代,我国光刻机技术出现了一次“滑铁卢”,不知道是科研资金不够还是“飘了”,我国科研人员甚至一度放弃了光刻机的研究,并且倡导从国外进口。可能当时的人没能考虑到进口的弊端,于是自研光刻机的事就一直被搁置了起来,就连前面20年的研究成果,也都付诸东流了。

也许是中国半导体行业的不景气,就连最后坚守在光刻机行业的武汉三厂最终也选择了转行,并卖起了零食,后来,直到台湾台积电公司开发出了193nm光刻机,国人才终于顿悟,直至今日,我国光刻机还是依靠进口。

通过对田中信一的询问,目前东芝电子厂已经可以生产4~5英寸圆晶,0.9微米级别的芯片。

听到田中的介绍,段云内心有些暗暗吃惊。

其实早在来日本之前,段云对国内目前的芯片产业技术情况已经有了比较全面的了解。

1986年,电子工业部在厦门召开集成电路发展战略研讨会,提出“七五”(1986—1990年)期间我国集成电路技术的“531”发展战略,即普及推广以742厂为基点的5微米技术,同时开发3微米技术,攻关1微米技术。

但实际上,一直到1993年的时候,国内才开发出 5英寸,三微米技术,而这比起日本,已经整整相差了15年以上。

“这套设备我要了。”段云走到一台光刻机前,对田中信一说道。

“段云先生……”田中闻言先是愣了一下,随即笑着对段云说道:“这是目前我们公司最先进的光刻机,全日本也只有6台,这个是不可能卖给你们的……另外你们生产的这种闪存芯片也用不着精密度这么高的光刻机。”

“那贵公司打算卖给我们哪一台光刻机?”段云问道。

段云其实早就知道东芝公司不可能把最先进的东西卖给自己,而且就算他卖,日本政府也不会同意。

一直以来日本政府对于芯片产业扶持力度都非常大,不光税收方面有优惠,东芝芯片产业的税率只有百分之20,远远低于美国公司45%~50%的税率,另外日本政府一直鼓励国内顶级高校的大学生从事芯片产业技术研究,并且设立了相关专业的高额奖学金,也正是因为以上种种举措,才使得日本的芯片产业力压美国,成为全球第一。

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